SEpA I

CD-SEM/EDS

適用于硅片量産的檢測需求

SEpA I應用電子掃描技術針對硅片進行檢測,實現高分辨率成像,高精度測量,爲開發與量産流程中産能提高及制程控制提供解決方案。






高空間分辨率

SEpA I的電子光學鏡筒經過精心優化設計,采用獨有的像差消除技術,最高分辨率可以達到3 nm,可以獲取清晰的二次電子成像。


高穩定度全自動檢測

SEpA I采用高精度電子束控制技術與圖像匹配技術,能夠保證檢測的高度可重複性,檢測誤差可以控制在1%以內。全自動檢測基于可定制流程Recipe,根據需求進行靈活的流程設置。在對批量樣品執行全自動檢測時,SEpA I能夠確保對于每個樣品每次檢測所獲得數據的高可靠性。


低真空技術

通過搭配我們所獨有的低真空功能模塊,樣品表面的荷電效應能夠得到有效抑制,從而有助于獲取清晰穩定的圖像以實現精准的測量。


能量色散X射線光譜(EDS

SEpA I可以搭配EDS元素分析模塊以實現快捷簡易的缺陷分析(如硅片表面顆粒成分分析等),測量中采用低加速電壓以保證高分辨率以及減小樣品損傷。


可選功能

低真空荷電抑制技術

能量色散X射線光譜(EDS


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